Department of Materials Science Engineering, Cornell University, Bard Hall, Ithaca, NY 14853, USA;
molecular glass resists; EUV; glass transition temperature; chemical amplification;
机译:使用正性分子玻璃抗蚀剂进行EUV光刻的亚50纳米特征尺寸
机译:用于EUV和电子束光刻的新型分子抗蚀剂
机译:用于EUV和电子束光刻的新型分子抗蚀剂
机译:用于EUV光刻的分子玻璃抗蚀剂
机译:用于高级光刻的分子抗蚀剂-设计,合成,表征和模拟。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:用于EUV光刻的负色度化学放大分子抗蚀剂平台的11nm半间距分辨率