LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium ,E.E. Dept., KU Leuven, Belgium;
LSI/PSI/USP, University of Sao Paulo, Sao Paulo, Brazil;
机译:热载流子对具有氮氧化物栅极电介质的N和P-MOSFET的模拟性能的影响
机译:利用BiCMOS-JFET radhard SOI技术研究质子辐射对设计用于高能物理的模拟IC的影响
机译:原子氧和质子的逐次和连续照射对模拟空间环境中聚醚醚酮的表面结构和摩擦学性能的影响
机译:质子辐射对散装N-和PFFET的模拟性能的影响
机译:体和SOI FinFET中的辐射引起的单事件瞬变(SET)效应以及与体CMOS的鲁棒性比较。
机译:黑色素瘤细胞迁移的pH依赖性:NHE1挤出的质子在本体溶液的质子中占主导地位
机译:质子和X射线照射对厚膜SOI互补(NPN + PNP)SiGE HBT的DC和AC性能的影响
机译:用于BICmOs-JFET Radhard sOI技术的高能物理模拟IC的质子辐射效应研究