異なるガス種でスパッタしたAg薄膜の特性比較

摘要

スパッタリングでの金属薄膜作製の際、ターゲット表面で反跳した希ガスが、薄膜中に取り込まれる現象が知られている。それを防ぐため、本来ターゲット金属と希ガスの質量数の差が小さいのが望ましいが、一般的にはどの金属に対してもArガスが用いられている。本研究では、Arガスに加えて、質量数がAgにより近いKrガス中での成膜を行い、Ag薄膜の特性を比較した。