イオン注入技術: 温故知新

摘要

「イオン注入は現代の錬金術である、願った機能を物質に与える錬金術である」と故升田公三先生の薫陶を受け、イオン源を組み立て様々な原子を半導体、特にSi(ケイ素)にイオン注入を行った。後アニールに関して、所謂熱アニールからパルスレーザーアニールまで、平衡-非平衡処理を通して、注入された元素の活性化に関する情報を、ミクロにはESR を中心に、マクロにはSIMSやRBS で分析を行い、昼・夜無く研究を行った。その間、多くの研究所、企業の現場において、様々な「問題」を議論させて頂いた。本発表においては、「1980 年代当時」に頭を悩ませた印象的な課題に焦点を当てて、ブラックボックス化したイオン注入という素晴らしいツールの、将来に現れるであろう電子デバイス形成の一助として頂くことを目的とする。