Weinert Vakuum VT GmbH, Kaufbeuren, Germany;
机译:等离子体喷射物理气相沉积(PS-PVD)中基板边界层成核和生长的条件(PS-PVD)
机译:表面增强红外吸收(SEIRA)增强和光谱质量对下层基板选择的依赖性:通过物理气相沉积(PVD)制备的银(Ag)膜的近距离观察
机译:对高热导率铜合金基底上物理气相沉积(PVD)涂层的摩擦学性能以及PVD处理之前中间化学镀Ni-P层的影响的研究
机译:在不使用耗材的情况下连续高速生产物理气相沉积(PVD)片状颜料的新进展
机译:通过反应电子束物理气相沉积(EB-PVD)沉积的微米厚氧化ado膜的工艺-结构-性能关系
机译:基于WO3前驱体滴铸底材的化学气相沉积法方便可控制地合成大面积单层WS2薄片
机译:化学气相沉积基于WO3前体掉浇铸基材的大面积单层WS2薄片的容易和可控合成