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刘志方;
无;
挤压模; 凸模; 表面强化; 氮化钛; PVD;
机译:反应离子束辅助电子束物理气相沉积(RIBA,EB-PVD)产生的氮化钛(TiN)涂层的组织演变
机译:通过高速物理气相沉积(HS-PVD)沉积(Ti,Al,Si)N涂层的后退火(HS-PVD)
机译:与快速热蒸发物理气相沉积(PVD)相比,等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)在植入氧化铝陶瓷上产生更好的生物相容性SiOx薄膜的水解稳定性
机译:氮化钛(TiN)和氮化铬(CrN)的PVD涂层系统的电化学行为
机译:通过反应和离子束辅助,电子束物理气相沉积(EB-PVD)合成和表征碳化钛,碳氮化钛硼,硼化钛/碳化钛和碳化钛/碳化铬多层涂层。
机译:热塑性聚氨酯聚合物上无机物理气相沉积(PVD)涂层的血液相容性
机译:质子交换膜(PEM)燃料电池双极板由物理气相沉积(PVD)氮化钛(锡)涂层AISI416不锈钢制备
机译:反应电子束 - 物理气相沉积(EB-pVD)沉积的微米厚氧化钆薄膜的工艺 - 结构 - 性质关系。
机译:用于金属基材的氮化钛铝涂层的PVD高速钢或碳化钨切削或加工工具,包括在涂覆之前对基底表面进行钒离子蚀刻
机译:用材料层的物理气相沉积(PVD)原位执行惰性等离子体气体表面清洁工艺
机译:电离物理气相沉积设备,iPVD iPVD源和方法
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