Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e.V., Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany;
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Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung e.V., Permoserstrasse 15, 04318 Leipzig, Germany;
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机译:硫族化物的选择性刻蚀及其在衍射光学元件制造中的应用
机译:激光诱导的背面湿法刻蚀在石英中制造微光学元件
机译:通过在模拟抗蚀剂上使用电子束直接写法和单一化学辅助离子束刻蚀步骤来制造单质衍射光学元件
机译:通过激光诱导的前侧蚀刻方法制造光学元件
机译:电化学刻蚀法制备适用于扫描探针显微镜的钨棒
机译:通过组合激光诱导的背面湿法蚀刻和激光诱导的化学液相沉积方法将耐用的微铜图案沉积到玻璃中
机译:等离子体化学蚀刻形成衍射光学元件的制造方法形成标准乐点图像