Applied Materials, 21515 NW Evergreen Parkway, Hillsboro, OR, USA 97124;
CD uniformity; registration; CW laser; DUV; mask pattern generation system; multi-beam; multi-pass;
机译:统一电能质量调节器的基于增强型PLL的非线性可变增益模糊磁滞控制策略的电阻优化
机译:使用基于灰色的田口方法的优化压延工艺来增强印刷OTFT的性能
机译:通过优化压延工艺来增强印刷有机薄膜晶体管的电性能
机译:ALTA 4700具有可变印刷策略和优化抗蚀过程的性能
机译:设计和引入新的策略以优化分子印迹过程
机译:在火花等离子体烧结过程中优化热电性能的策略
机译:溶剂特性对印刷碳电阻材料性能和工艺稳定性的影响