Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai, Japan;
Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai, Japan;
Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai, Japan;
Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai, Japan;
Ions; Silicon; Metals; Etching; Nanobioscience; Chemicals; Electrolytes;
机译:通过金属辅助化学蚀刻方法浇注到纳米孔中的离子传输
机译:氧化物层对金属辅助化学刻蚀制备的硅纳米线电学性能的影响
机译:纳米银辅助化学刻蚀法制得的纳米级黑色硅抗反射层
机译:金属辅助化学蚀刻方法制造的纳米孔中的电驱动离子输送
机译:用化学辅助离子束刻蚀制造的新型半导体激光器结构。
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制备的三角形孔阵列