Hebei Semiconductor Research Institute, Shijiazhuang 050051, China;
Hebei Semiconductor Research Institute, Shijiazhuang 050051, China;
Hebei Semiconductor Research Institute, Shijiazhuang 050051, China;
Hebei Semiconductor Research Institute, Shijiazhuang 050051, China;
MMICs; Silicon; Power amplifiers; Gallium nitride; Wires; Dry etching; Bonding;
机译:适用于低电阻GaN硅技术的低损耗MMIC可行传输介质
机译:用于现代无线电通信的SiC和硅基板上的高功率微波GaN / AlGaN HEMT和MMIC
机译:用于现代无线电通信的高功率微波GaN / Algan Hemts和MMICS上的SIC和硅基板
机译:一种新的GaN MMICS用基于硅技术的包装
机译:GaN HEMT与硅MOS技术的单片集成
机译:硅(111)衬底上的基于GaN的紫外线无源像素传感器
机译:低损耗mmIC可用于GaN低电阻率硅技术的可行传输介质