NANOElecTronic Center (NET), Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM), Shah Alam, Selangor;
机译:离子束溅射沉积技术制备非晶碳薄膜的结构,光学和电学性质的相关性研究
机译:退火温度对表面波微波等离子体化学气相沉积法生长的氮化非晶碳薄膜的光学,键合,结构和电性能的影响
机译:退火温度对表面波微波等离子体化学气相沉积法生长的氮化非晶碳薄膜的光学,键合,结构和电性能的影响
机译:沉积温度对TCVD制备的无定形碳薄膜电,结构和光学性能的影响
机译:金属有机化学气相沉积法制备钽酸钽铌酸钾薄膜的结构,介电和光学性质
机译:沉积温度对化学制备纳米晶硒化铅薄膜的结构和光学性能的影响
机译:浴温对化学浴沉积制备的镉巯基薄膜结构,光学和电性能的影响