M/A-COM: Tyco, 100 Chelmsford Street, Lowell, MA 01851 USA;
electrophoretic photoresist (EPR); liquid photoresist (LPR); topography; silicon-on-glass (SOG); gallium arsenide (GaAs); vias;
机译:使用JSR THB-151N负性UV光刻胶的先进晶圆级封装应用的厚光刻胶工艺
机译:蒸汽-水混合射流物理作用的参数研究:从硅晶片表面去除光刻胶膜
机译:喷涂光刻胶以在高形貌的表面上进行图案转移
机译:高级地形晶片表面的电泳光致抗蚀剂应用
机译:通过电泳形貌表征固液胶体分散体的表面电动特性。
机译:不同表面处理和多模胶粘剂应用对CAD / CAM锂锂静脉陶瓷湿润特性润湿性表面形貌和粘附性的影响
机译:光致抗蚀剂喷涂,用于高地形表面的图案转移
机译:电子显微镜在磨损表面形貌和亚表面微观结构研究中的应用