Mechanical Engineering Research Laboratory, Hitachi, Ltd., 502 Kandatsu, Tsuchiura, Ibaraki, 300-0013, Japan;
机译:灯加热下具有掺杂层的硅晶片中的温度双稳性
机译:底壁加热对端壁旋转的圆筒形壳体中屈服应力流体混合对流的影响
机译:壁加热对带旋转端壁圆柱形外壳中层混合对流的影响
机译:圆柱形灯加热装置中旋转晶片中气流与温度分布的分析
机译:从气流在高温下从气流传递到正常到流动的气缸
机译:含有纳米流体的波浪壁腔中混合对流和熵生成的数值研究涉及旋转圆柱
机译:灯加热器快速热加工过程中气体对流对晶片温度分布的影响分析。
机译:空间条件下连续旋转和反向空心圆柱温度分布的解析研究