DuPont KK Technical Center, Microcircuit Materials 19-2 Kiyohara-Kogyodanchi Utsunomiya-shi, Tochigi 321-32, Japan;
机译:用于高于80 T的无损脉冲场的超高强度“连续” Cu / Nb和Cu / Ta导体开发的最新进展
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机译:基于荧光素酶的记者的开发与表征,以监测早期终止密码子的翻译终止与正常终端密码子
机译:CU终止发展进展
机译:通过金属有机化学气相沉积相选择合成Tl-Ba-Ca-Cu-O薄膜和多层结构。工艺优化,相变,电学表征和微结构发展。
机译:ISRCTN45828668的早期终止是柳氮磺胺吡啶治疗成人进行性恶性神经胶质瘤的1/2期前瞻性随机研究
机译:1200 kV原型终止的评估,设计,开发和交付。第九届技术进展报告,1980年12月1日 - 1981年2月28日
机译:评估,设计,开发和交付1200-KV原型终端。 1981年6月1日至1982年2月28日第十一次技术进步报告