School of Advanced Materials and System Engineering, Kum Oh National University of Technology, Kumi, Kyung Buk 730-701, Korea;
copper; diffusion barriers; interconnection; morphology; palladium chloride; texture; TiN; without Cu seed layer;
机译:在Ru底层上生长高(0001)织构Sm(Co,Cu)_5薄膜的钉扎部位的微观结构研究
机译:以SmBa_2Cu_3Othin薄膜为种子的冷种法融化(LRE)-Ba-Cu-O的生长
机译:走向低成本大面积CIGS薄膜II:快速热处理中硒化的顺序电沉积的Cu / In / Cu / Ga / Cu叠层的面外成分变化
机译:锡薄膜电沉积物Cu的微观结构和纹理,无需Cu基层
机译:脉冲激光沉积生长的外延YBa2Cu3O7-8薄膜和YBa2Cu3O7-8 / PrBa2Cu3O7-8异质结构的超导性能
机译:掺Te的Cu2OSeO3薄膜中螺旋和天旋子自旋织构的尺度旋转和沟道行为
机译:稀土二元Cu(al),Cu(In),Cu(Ti),Cu(Nb),Cu(Ir)和Cu(W)合金薄膜的织构和电阻率