大口径反射元件环形抛光工艺

摘要

本文根据环形抛光的加工特点，研究了大口径反射元件的环形抛光加工工艺。在4m环抛机上进行了610mm×440 mm×85mm的大口径反射元件加工工艺实验，研究了修正盘及工件盘转速与元件面形的关系、修正盘及工件盘位置与元件面形的关系、沥青盘槽形与元件面形的关系。研究结果表明，通过对修正盘及工件盘转速、修正盘及工件盘位置、沥青盘槽形等工艺参数的优化控制，能够得到大口径反射元件面形的高效收敛，元件最高面形精度优于λ／6(λ=632.8 nm)，验证了加工工艺的有效性。