基于模板匹配的低亮度过孔提取方法研究

摘要

随着IP核在集成电路中的广泛应用,IP核的知识产权问题已经引起相关部门和行业的重视,并提出了多种进行IP核保护和维权的方法.反向解剖目标芯片,提取目标电路,检验其与目标IP的一致性通常是鉴定IP核侵权的主要方法.该方法利用图像处理、模式识别等理论和方法,对通过显微镜采集到的芯片图像进行处理,以识别出IP核的电路结构,从而判断芯片是否侵权.期间由于集成电路图片是芯片经酸腐蚀或机械打磨后采集到的图像,因此存在腐蚀或打磨过度的情况,以至出现照片目标不明显现象.针对以上问题,本文提出了一种基于对比度的模板匹配的目标图像识别方法,针对过孔不明显的照片提取过孔信息,取得了良好效果,具有较强的抗干扰能力和较高的识别准确率.