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ZHU Shengfa; 朱生发; LIU Tianwei; 刘天伟; WU Yanping; 吴艳萍; HUANG He; 黄河; JIANG Fan; 江帆; TANG Kai; 唐凯; WEI Qiang; 魏强;
中国腐蚀与防护学会;
广东省防腐蚀协会;
贫铀; 非平衡磁控溅射; 腐蚀性能;
机译:通过高功率脉冲磁控溅射沉积的氧化铝和硅的CRNX薄膜中的残余应力
机译:基板偏置电流对等离子体增强磁控溅射沉积CRNX薄膜结构和性能的影响
机译:磁控溅射不同沉积速率CrNx薄膜的组织和力学性能比较研究
机译:P-DC磁控溅射法沉积CRNX薄膜的力学性能和微观结构
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:SC0.09Al0.91N和SC0.18A10.82N的外延生长通过磁控溅射对表面声波应用的磁控溅射薄膜
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射制备CrNx薄膜的比较研究
机译:闭合场非平衡磁控溅射 - 用于紧固件的环境安全腐蚀和磨损涂层
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
机译:高频等离子体生成的平衡到非平衡转换设备,平衡到非平衡转换设备构成的等离子体表面处理设备以及等离子体表面处理方法
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