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王增林; 王秀文; 刘宗怀; 杨祖培;
中国化学会;
扬州大学;
厦门大学;
化学镀铜; 沉积机理; 物理气相沉积; 添加剂; 互连线;
机译:在沉积过程中和沉积后,通过X射线衍射监测化学镀铜膜中的应变及其对镀液化学的依赖性
机译:化学镀铜过程中醛作为还原剂的氧化机理的密度泛函理论研究
机译:Pd上化学镀铜沉积成核的研究
机译:在肼溶液中在不锈钢基材上化学镀钯:镀液参数,沉积机理和沉积形态之间关系的研究。
机译:通过生物启发的聚多巴胺粘附和化学沉积镀铜的液晶弹性体
机译:化学镀铜沉积期间形成的银铜复合图像的化学状态
机译:酒石酸盐和EDTa基化学镀铜沉积浴的平衡特性
机译:化学镀铜,用于沉积化学镀铜的催化剂的去除液及其应用
机译:通过对镍和/或金@进行镀铜,选择性上光,剥离和电沉积,在氧化铝陶瓷基底上化学镀铜底涂层。导电带
机译:如何使用化学镀铜组合物化学镀铜不含甲醛,并且化学镀铜组合物
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