氧化锡基低辐射玻璃辐射率改善的途径分析

摘要

掺杂F的氧化锡薄膜(FTO)是一种透明导电的氧化物薄膜,也是在线低辐射玻璃(Low-E)的功能膜,如何进一步降低其辐射率是一个重要课题.本文分析了辐射率的影响因素和降低辐射率可以采取的措施.分析表明,表面电阻是最主要影响因素,为了使辐射率ε＜0.1,必须使方块电阻＜8.1Ω/□;通过优化掺杂、改善膜系匹配、光辅助CVD等方法进一步提高结晶质量、表面平整度和堆积密度,可以进一步降低辐射率,优化在线Low-E玻璃的性能.