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大面积双面高精度微带电路制造技术

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摘要

为了满足大面积双面微带电路(如天线)生产加工的高精度技术指标,提出了一种制造方法.并通过工艺技术摸索,对光刻掩膜版进行了校正与制作,确定了掩膜版的制作精度;设计制作了双面对准系统,使电路双面对准精度达到±0.02mm;对于不浸润的特殊微波材料孔金属化可靠性不高的现状,提出了具体的解决办法.

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来源
《中国宇航学会探测与导引技术专业委员会第四次学术交流会》|2014年|638-642|共5页
会议地点烟台
作者
王曙光;
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作者单位

中国宇航学会;

中国航天科工集团第二研究院二十五所;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN455:TN405;
关键词
微带电路; 光刻掩膜版; 双面对准; 可靠性;

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