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胡皓冰; 林昌健;
中国化学会;
钛合金; 电化学刻蚀;
机译:多重内反射几何学中红外表面吸收光谱法对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察红外抗体对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察
机译:电化学刻蚀的p〜+型GaAs表面的结构和光学性质:刻蚀电解质中HF的存在的影响
机译:阳极刻蚀和光电化学表面刻蚀在GaN中对准中孔阵列
机译:湿法刻蚀,离子轰击和电化学刻蚀后INP(100)晶片表面化学的Auer和LEED研究
机译:有机材料等离子体刻蚀的刻蚀轮廓控制与表面反应研究
机译:双酸刻蚀与化学修饰的亲水性双酸刻蚀植入物表面的界面生物力学特性:在Beagles中进行的实验研究
机译:表面处理对海水中钛合金电化学行为的影响(电化学阻抗谱法)
机译:钛合金应力腐蚀开裂Ti-6aL-4V在氯化物,碘化物和氟化物溶液中的薄试样scc裂纹研究熔盐中的应力腐蚀开裂新生钛表面的电化学
机译:钛或钛合金的骨质植入物及其在表面上生成钛合金的电化学过程
机译:在碳化硅(SiC)基质的光电化学刻蚀中使用的刻蚀剂,刻蚀装置和刻蚀方法
机译:电化学刻蚀以及电化学刻蚀产品的方法和装置
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