氧等离子体处理对低介电常数SiOF薄膜性能的影响

摘要

研究了氧等离子体处理对低介电常数SiOF薄膜性能和结构的影响,发现氧等离子体处理改善了SiOF薄膜的抗吸湿性能.红外光谱分析表明,随着氧等离子体处理时间的增加,SiOF薄膜中Si-F吸收峰的半峰宽FWHM将减少,而振动频率V<,Si-F>则增加.分析认为氧等离子体处理能降低SiOF薄膜中不稳定=SiF<,2>结构的浓度,使薄膜表层中的一部分F被O取代,形成了稳定的Si-O键,因而使SiOF薄膜的抗吸湿性能得到改善.