首页> 中文会议>'96中国材料研讨会 >纳米SiC、Si<,3>N<,4>、Si/C/N微粉的气相合成方法

纳米SiC、Si<,3>N<,4>、Si/C/N微粉的气相合成方法

摘要

该文对80年代后期以来,运用CVD、CVC、Laser、Plasma等技术高温反应裂解有机物和有机低分子聚合物合成SiC、Si〈,3〉N〈,4〉、Si/C/N纳米微粉的方法和各种反应体系的特点以及前景进行了综述和讨论。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号