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基于极性反转畴的AlGaN基紫外LED制备及发光特性研究

摘要

本工作在图形化AlN缓冲层衬底上外延生长含有极性反转畴的氮化物薄膜,同时湿法刻蚀制备出具有低界面态密度的纳米阵列结构的紫外LED.本工作分析了亚微米尺度下极性反转畴的形成机制和分布规律,探索极性反转畴对器件内部载流子传输与复合的作用原理,深入理解了缺陷态密度对于紫外LED辐射复合效率的影响机制.

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