多种β射线阻挡层及X射线产额精度对BIXS氚分析技术的影响

摘要

BIXS技术(β衰变诱发X射线谱技术)是一项无损的氚分析技术,该技术通过探测含氚材料中氚β衰变发出的β射线与材料相互作用产生的韧致辐射与特征X射线来分析材料中氚的含量及深度分布.其优点主要体现在:能够实现在线及原位测量,分析深度大,对于高原子序数的材料能达到100μm,对低原子序数的材料能达到1mm,尤其是对材料没有损伤.BIXS技术可用于分析固体材料中氚的含量及深度分布,也可用于分析含氚废水及气态氚源中氚的含量.目前,BIXS技术已在JET,EAST及ITER等相关实验研究中得到了应用.经研究，Al膜最适合用作BIXS技术的β射线阻挡层，此时不仅排除了极化韧致辐射的干扰，还能够自由调节X射线探测器与样品之间的距离，尤其在考虑X射线计算精度时受到的影响较小。