首页> 中文会议>第十届全国半导体集成电路、硅材料学术会 >五氧化二磷在NTDFz-Si退火中的应用

五氧化二磷在NTDFz-Si退火中的应用

摘要

将五氧化二磷应用于NTDFz-Si的退火中,对同种不同情况的样品进行了处理,并对结果进行了分析讨论;同时与HCL+O〈,2〉退火工艺的结果数据进行了对比分析。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号