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高分辨全息光栅制作技术

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本文介绍一种用于产生高分辨全息光栅的新方法——液浸式干涉光刻技术的基本原理、实验系统、设计方法和可能的应用.

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来源
《全国光电技术学术交流会》|2000年|442-445|共4页
会议地点广西北海
作者
冯伯儒; 张锦; 侯德胜; 宗德蓉; 蒋世磊;
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作者单位

中国宇航学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光刻; 全息光栅; 干涉光刻;

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