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利用场发射显微镜研究碳化钨场发射

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本文在超高真空环境下通过高温处理在金属钨针尖上形成了碳化钨薄膜,对其场发射特性进行了测量,并估算了其逸出功.

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来源
《第八届中国场致发射与真空微电子学学术会议》|2001年|33-35|共3页
会议地点西安
作者
孙建平; 张兆祥; 侯士敏; 张耿民; 赵兴钰; 刘惟敏; 薛增泉;
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作者单位

中国电子学会;

中国真空学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类场致发射、场致发射阴极;
关键词
碳化钨薄膜; 场发射; 逸出功; 场发射显微镜;

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