氧化物薄膜的激光预处理效应研究

摘要

对高功率激光薄膜常用的HfO<,2>/SiO<,2>、ZrO<,2>/SiO<,2>、(ZrO<,2>+Y<,2>O<,3>)/SiO<,2>和Ta<,2>O<,5>/SiO<,2>等膜料镀制的高反膜,采用N-on-1激光运行方式,即对薄膜单点幅照的激光能量密度,以薄膜损伤阈值的60﹪开始,由小到大直到薄膜发生损伤,进行激光预处理效应研究.实验表明,HfO<,2>/SiO<,2>高反膜的激光预处理效果最好,激光损伤阈值提高3倍以上,ZrO<,2>/SiO<,2>和(ZrO<,2>+Y<,2>O<,3>)/SiO<,2>次之,Ta<,2>O<,5>/SiO<,2>较差.对HfO<,2>/SiO<,2>薄膜激光预处理研究发现,其效应有两种形式,薄膜激光老化和薄膜表面缺陷低能量密度激光清除.薄膜激光损伤尺度和程序对光谱性能影响的实验表明,薄膜激光损伤程序对光学性能的影响有较大的差异因而对于高反膜,损伤阈值不应以单纯的激光损伤为判断依据,应以不影响实际应用的激光操作阈值为依据.