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原位TiN/O'-Sialon材料的低温氧化行为研究

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采用热分析法研究了原位TiN/O'-Sialon材料在低温下(800～1000℃)的氧化行为.结果表明,在800～1000℃的空气中,TiN氧化为TiN/O'-Sialon不发生氧化，时间足够长,材料转变为原位TiN/O'-Sialon复相材料,材料表面无"保护膜"生成.

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来源
《第六届全国冶金工艺理论学术会议》|2001年|232-235|共4页
会议地点包头
作者
杨建; 姜涛; 薛向欣; 谢朋; 王文忠;
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作者单位

中国金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TQ174.758.22;TQ174.14;
关键词
TiN/O'-Sialon; 低温氧化; 陶瓷复合材料; 原位合成材料; 热分析法;

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