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VLSI设计的参数成品率优化研究

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集成电路(IC)的成品率研究一直是可制造工程和设计研究的主要内容之一.随着超深亚微米VLSI技术的发展,而由工艺扰动引起的参数成率降低更为明显.本文首先系统地讨论了参数成品率的各种模型和方法,分别分析了它们的优势和局限性.最后指出了在超深亚微米(VDSM)时期参数成品率面临的主要问题和挑战.

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来源
《中国电子学会电路与系统学会第十八届年会》|2004年|372-375|共4页
会议地点长沙
作者
荆明娥; 郝跃; 王俊平;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类半导体集成电路（固体电路）;
关键词
参数成品率; 可接受域; MC方法; 单纯形法; VLSI;

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