N+离子注入ZnO薄膜表面性质的变化

摘要

本实验采用N+离子注入ZnO 薄膜，ZnO 薄膜用直流反应磁控溅射法制备。经快速热处理（RTP）后，通过XRD，AFM，UV-VIS-NIR 分光光度计等比较了N+离子注入后ZnO 薄膜的电阻率，导电类型，表面形貌，可见光透过率等的变化。