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张跃飞; 张广秋; 葛袁静; 陈光良; 王瑜;
中国振动工程学会;
碳氢膜; 阻隔性能; 薄膜结构; 射频等离子体沉积;
机译:沉积在钛上的非晶氧化铝薄膜:界面化学和热氧化阻隔性能
机译:不同射频功率对反应性射频等离子体增强化学气相沉积制备非晶硼碳薄膜合金性能的影响
机译:气压对射频等离子体增强化学气相沉积法制备掺硼氢化非晶碳薄膜的影响
机译:射频等离子体化学气相沉积在FeRAM集成中用于氢阻挡层的非晶碳膜沉积
机译:溅射沉积非晶非晶-thin薄膜的磁性和微观结构性质。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:常规铬薄膜,非晶光亮铬沉积(aBCD)薄膜,N +注入aBCD薄膜的表征研究和使用丙酸作为有机添加剂制备aBCD薄膜
机译:连续或半连续激光烧蚀方法,用于沉积氟化物超晶薄膜,该薄膜具有与非晶格匹配基板上沉积的晶胞基本面对准的特征
机译:由在530度沉积的非晶半导体膜制造包括LDD区的薄膜晶体管的方法;使用低压化学气相沉积或更低的温度
机译:氢化非晶碳膜的沉积工艺,以及涂覆有氢化非晶碳的氢化非晶碳膜的制品
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