机译:不同射频功率对反应性射频等离子体增强化学气相沉积制备非晶硼碳薄膜合金性能的影响
Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, 250 Kuo Kuang Road, Taichung, 402 Taiwan;
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Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, 250 Kuo Kuang Road, Taichung, 402 Taiwan;
chemical vapor deposition; carbon; amorphous boron carbon thin film alloys; photovoltaic;
机译:射频功率对通过乙炔/氮混合物的远程感应耦合等离子体增强的热化学气相沉积制备的碳薄膜性能的影响
机译:射频功率对使用三(二甲基氨基)硼气体进行等离子体辅助化学气相沉积的含氢氮化硼碳氮薄膜介电性能的影响
机译:射频等离子体化学气相沉积生长对碳基太阳能电池的贡献的n型磷掺杂非晶碳膜的物理和微观结构性质
机译:原位等离子体分析,通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在Si上的氟化非晶碳和氢化非晶碳薄膜的氟掺入,热稳定性,应力和硬度比较
机译:微波等离子体在硼-碳-氮三元体系中合成薄膜增强了化学气相沉积。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性
机译:通过等离子体增强化学气相沉积沉积的无定形碳膜作为平面化层。