Pa、温度分别为800℃和1000℃条件下进行了表面热处理,分别用红外光谱、原子力显微镜以及不同退火温度的场发射试验对薄膜进行了研究,结果表明表面热处理对BN薄膜的表面形貌没有明显影响,样品场发射特性的变化可能与表面负电子亲和势有关,未进行热处理的样品阈值电场较低,可能归因于表'/>
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李卫青; 顾广瑞; 李英爱; 何志; 冯伟; 刘丽华; 赵春红; 赵永年;
中国仪器仪表学会;
中国金属学会;
中国稀土学会;
中国复合材料学会;
中国有色金属学会;
氮化硼薄膜; 表面热处理; 场发射; 发射电流; 阈值电场;
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