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机译:氢氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响
Jilin Univ, Natl Lab Superhard Mat, Changchun 130023, Peoples R China;
BN films; hydrogen and oxygen plasma; surface treatment; field emission; threshold electric fields; emission current; ELECTRON-EMISSION; COLD-CATHODE; EMITTERS; AFFINITY; STRESS;
机译:热处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响
机译:厚度对纳米氮化硼薄膜场发射特性的影响
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机译:立方氮化硼晶体晶粒沉积在Si衬底上的氮化硼薄膜的场发射特性
机译:氮化硼薄膜的电子场发射。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:氢等离子体处理和缺氧对导电的影响 In $ _2 $ O $ _3 $的属性:sn薄片
机译:脉冲激光沉积超薄氮化硼薄膜的时间和空间分辨等离子体光谱(后印刷)。