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Fe-N薄膜的结构和磁性研究

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用RF磁控浅射法制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.研究了氮气分压和纯Fe衬层对Fe-N薄膜结构和磁性的影响.结果表明:当氮气分压为2×10<'-4>Torr时,最有利于α″-Fe<,16>N<,2>相的形成.在此条件下制备的FeN薄膜的饱和磁化强度高达2.735T.

著录项

来源
《第四届全国磁性薄膜与纳米磁学会议》|2004年|195-197|共3页
会议地点天津
作者
陈逸飞; 姜恩永; 李志青; 白海力;
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作者单位

中国物理学会;

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类特种结构材料;
关键词
Fe-N薄膜; RF磁控溅射法; 薄膜结构; 磁性;
入库时间 2022-08-17 10:58:52

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