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脉冲电镀制备镧、锕系元素厚源(靶)

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本文报道了利用脉冲电镀法在有机溶剂DMF(二甲基甲酰胺)介质中制备U靶.开展了脉冲电镀参数、电流密度、沉积时间、电解液浓度等沉积参数的研究,初步确定了最佳的电镀U靶的条件,通过一次电镀成功制得厚度3-4mg/cm<'2>的铀靶.

著录项

来源
《第七届全国核化学与放射化学学术讨论会》|2005年|64-65|共2页
会议地点珠海
作者
杨春莉; 苏树新; 张生栋;
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作者单位

中国核学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类引出系统和靶;
关键词
锕系元素靶; 脉冲电镀; 能量分辨率; 靶面密度;
入库时间 2022-08-17 10:50:26

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