溅射法制作CrSi薄膜电阻工艺技术

摘要

本文对溅射法制作CrSi薄膜电阻工艺技术进行了研究。文章介绍了使用直流磁控反应溅射工艺攻克该难题的方法,即通过对影响电阻结构的多种工艺要素的实验归纳,寻找出了制作高方阻CrSi电阻的最佳工艺条件。