基体清洗法测定CeO2在载体γ-Al2O3表面的分散阀值

摘要

CeO2在γ-Al2O3载体表面分散阀值的确定对于提高CeO2的利用率具有重要的现实意义.用浸渍法制备了CeO2/γ-Al2O3催化剂,XRD分析表明随着负载量的增加,CeO2的衍射峰强度也随之增加.选取衍射峰不与CeO2衍射峰重叠且具有良好的稳定性的NiO作为参比物质,用基体清洗法计算CeO2的单层分散阀值为0.125 g/g(γ-Al2O3),浸渍时间影响单层分散阀值的大小.