射频溅射制备氧化镍电致变色薄膜的研究

摘要

采用射频反应磁控溅射工艺,以纯镍靶为靶材,在SnO2玻璃上制备电致变色NiOx薄膜。通过对薄膜X射线衍射(XRD)、X光电子能谱(XPS)、扫描隧道显微镜(STM)、循环伏安曲线及可见光透过率的测定,探讨了NiOx薄膜的电致变色性能和微观结构之间的关系,研究了热处理过程中的结构变化和表面形貌。测试表明该氧化镍薄膜具有良好的电致变色性能和阳极着色效应,以及较高的使用寿命.