电泳法制备纳米金刚石场发射阴极

摘要

用电泳法制备了纳米金刚石场发射阴极,研究了不同热处理环境对场发射性能的影响。在气氛炉中热处理的样品其阈值场强为8.0V/μm，场发射电流密度在17.7V/μm场强下可达到136μA/cm2；而在真空环境中热处理样品的场发射特性与之相比有明显提高,其阈值场强为3.83V/μm,场发射电流密度在9.44V/μm场强下可达到280μA/cm2.用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对样品表面的结构、成份及形貌进行分析,表明真空环境下的热处理,更有利于样品的电子发射.