不同偶联剂在二氧化硅基片表面吸附膜的形貌分析

摘要

通过气相法在二氧化硅基片表面沉积了氨丙基三乙氧基硅烷(KH-550)和四异丙基二(亚磷酸二辛酯)钛酸酯(NDZ-401)偶联剂薄膜,并采用原子力显微镜(AFM)研究了不同偶联剂在二氧化硅基片表面吸附膜的形貌。结果表明,硅烷偶联剂和钛酸酯偶联剂在二氧化硅基片表面的吸附膜具有不同的形貌,硅烷偶联剂在二氧化硅基片表面易形成层状吸附膜结构,而钛酸酯偶联剂在二氧化硅基片表面易形成岛状吸附膜结构。其在基片表面的吸附过程是偶联剂分子在基片表面吸附反应与偶联剂分子之间自身聚合反应二者共同作用的过程。通过采用甲苯超声洗涤的方式对二氧化硅基片表面吸附的硅烷和钛酸酯偶联剂薄膜进行洗涤后发现,硅烷和钛酸酯偶联剂通过物理吸附和化学吸附两种吸附吸附在二氧化硅基片表面。