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新型含硅共轭聚合物的合成及表征

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通过Sonogashira偶联反应合成了主链含苯环和炔基,侧基含有机硅基的新型含硅共轭聚合物.用1H-NMR、GPC对聚合物进行了表征,并用TGA、DSC对其进行了热性能分析,对其基本光物理性质采用UV-Vis、FL进行了初步研究.

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来源
《第十四届中国有机硅学术交流会》|2008年|92-94|共3页
会议地点杭州
作者

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作者单位

中国氟硅有机材料工业协会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 O634.41;
关键词
共轭聚合物; Sonogashira偶联; 硅基取代基;

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