首页> 中文会议>第十四届全国核电子学与核探测技术学术年会 >超薄硅基PIN高能粒子探测器的制造工艺和特性分析

超薄硅基PIN高能粒子探测器的制造工艺和特性分析

摘要

PIN硅基高能粒子薄探测器在空间探测、核物理检测、医药环境测量方面有着广泛的应用。它可以用于甄别高能粒子的种类和能量。薄探测器越薄,高能粒子的能量分辨率越好。然而,由于受到传统硅微加工中某些工艺的限制,制作出厚度低于100μm的薄探测器成为了瓶颈。本文设计并开发了一种超薄PIN粒子探测器的整套加工工艺,并对制造出的探测器进行了测试和特性分析。实验结果表明,基于TMAH工艺的探测器厚度可达571μ,面积为113mmz。同时,它还具有良好的电学特性和辐射特性。探测器工作状态的反向漏电流达到nA数量级,比面垒工艺制备的探测器下降1-2个数量级;用237Am源进行测试,5.536MeV的α源的能量分辨率为0.48%-0.56%,噪声为17.55keV。

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