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离子束技术挑战浅结工艺的发展态势及启示

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今年6 月间在美国加州蒙特雷举办了第17 届国际离子注入技术大会( IIT2008 ) ,也是这个系列会议的30 周年大会.参加会议的有260 多人,会上特邀报告9 个,口头报告57 个,大字报 107 篇. 会议期间还有众多半导体厂商参加的离子注入工艺设备与技术展览会.

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来源
《全国第十二届电子束离子束学术年会、第九届电子束焊接学术交流会、第十一届离子源学术交流会、高能束加工技术研讨会、第十届粒子加速器学术交流会暨荷电粒子源、粒子束会议》|2008年|1|共1页
会议地点哈尔滨
作者
赵渭江;
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作者单位

中国电工技术学会;

中国电子学会;

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
离子注入; 注入工艺; 浅结工艺; 离子束;

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