纳米透明电磁屏蔽玻璃的制备及性能研究

摘要

国内现有的电磁屏蔽视窗不能很好兼具高透光率和高电磁波屏蔽效能。本文采用电子束蒸发法以ITO膜作为电磁波屏蔽层,探讨了纳米透明电磁屏蔽玻璃的制备及性能。为得到高屏蔽效能并保证较高的透光度,研究了膜厚、成膜速率、透光率、方电阻、屏蔽效能之间的关系,找到了最佳工艺参数。另一方面,通过对屏蔽膜进行原位高纯氧气氛下的后续热处理,改变ITO材料微结构,获得微纳晶团簇化显微结构,进一步降低方电阻,有效地提高了屏蔽效能。结果表明,厚度在500～1000nm之间,蒸镀速率为0.23nm,并经过400℃40min原位后处理可得到方电阻为5～3Ω/□,透光率76.3％～71.6％,屏蔽效能54.8～63.2dB的高性能ITO膜。另外,通过对玻璃基片采用预先热处理增强或将镀有屏蔽膜的玻璃和另外一块普通白玻进行复合制成夹层玻璃的方式,制得符合要求的特种安全玻璃。