一种提高非球面干涉检验补偿波面相位精度的方法

摘要

应用计算全息图(CGH)作为补偿器件,干涉检验非球面形状误差具有重要的发展前景。在石英基片上刻蚀相位型CGH时,相位深度量值会影响相位型计算全息器件出射波面的相位精度。本文针对刻蚀速率沿刻蚀腔中心向四周递减的特性,从标量衍射理论出发,据二元光学器件特征参数与相位调制精度关系研究得出：同样的刻蚀深度不均匀度(用百分数表示),CG门的出射波面畸变随相位深度的减小而减小,在保证透射波面衍射效率的情况下,通过优化刻蚀深度,控制出射波面的相位精度。为便于用标准器具验证,制作台阶深度为550nm相位型CGH,将球面波转化成平面波。通过干涉测试该CGH出射波前,很好地验证了上述结论。