用于提纯四甲基碳酸氢铵的树脂的再生条件探索

摘要

四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种强的有机碱,无色、无臭,在室温下蒸汽压也低,在135-140℃完全气化,高纯品在140℃低温处理也无微量残渣。含TMAH1% (wt)溶液的PH值为12.9,是一种碱性与苛性碱同等程度的有机碱。在工业领域有着广泛的用途,例如用于有机硅系列产品合成中的催化剂,聚酯类聚合,纺织、塑料制品与皮革等领域。在电子行业中,主要用作印刷电路板的光刻显影剂、硅晶片蚀刻剂以及微电子芯片制造中的清洗剂等。电子级的四甲基氢氧化铵,质量要求非常苛刻,金属离子含量均不超过10μg/L。目前制备高纯四甲基氢氧化铵比较常用的方法为电解,而四甲基碳酸氢铵由于其电解产生的是无腐蚀性的CO2、电流效率高、生成杂质少等优点,是电解比较理想的原料。